英特爾分享先進封裝技術最新進展

時間:2025-06-11
來源:18183新聞
责任编辑:夏雨星梦

為了推動AI等創新應用的落地,使其惠及更廣大的用戶,需要指數級增長的運算能力。因此,半導體產業正在不斷拓展晶片製造的界限,探索提升性能、降低功耗的創新途徑。

在這樣的背景下,過去僅用於散熱和保護裝置的封裝技術正從幕後走向台前,成為業界的熱門趨勢。與傳統封裝技術不同的是,先進封裝技術可以在單一裝置內整合來自不同廠商、不同製程、不同大小以及不同功能的晶片,為打造效能更強大、能源效率更高的系統單晶片(SoC)開創了新的可能性。

英特爾一直致力於將處理器、加速器和記憶體等各種晶片堆疊起來,組合到更大規模的封裝中,幫助客戶提升產品性能至更高層次。在2025 IEEE電子器件技術大會(ECTC)上,英特爾分享了其在封裝技術方面的最新進展。ECTC由IEEE(電氣電子工程師學會)電子封裝協會主辦,專注於封裝、器件及微電子系統的研究、技術與教育,是封裝領域的國際頂尖會議。

具體來說,英特爾在封裝領域的三大關鍵技術路徑包括:提高封裝良率、確保供電穩定可靠,以及通過有效的熱管理技術實現散熱。

EMIB-T:穩定供電

英特爾的EMIB(嵌入式多晶片互連橋接)技術已經進入生產階段,突破了光罩尺寸的限制,達成了多晶片之間的高速互聯。此外,藉由硅通孔(TSV)技術,EMIB-T優化了供電效率,並為集成高速HBM4以及基於UCIe標準的芯粒提供了簡便的解決方案。

熱壓鍵合:提高良率

隨著封裝尺寸越來越大,集成多晶片的複雜度也在同步上升。英特爾計劃通過探索高精度、大光罩熱壓鍵合(TCB)的先進工藝來提高良率和可靠性。

分解式散熱器:高效散熱

隨著封裝變得越來越複雜,尺寸也越來越大,熱設計功耗(TDP)也在不斷增加。面對散熱層面的挑戰,英特爾正在研發全新的分解式散熱器技術以及新一代熱界面材料。這些創新能夠更有效地將熱量從熱源傳遞到散熱器的不同部分,從而提升整體的散熱效率。

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